晶体结构

集成电路制造技术复习笔记:第一章

常见半导体晶体结构:

  • 金刚石结构 (diamond lattice):硅(Si),锗(Ge)
  • 闪锌矿结构(zincblende lattice):砷化镓(GaAs)等
  • 纤锌矿结构(wurtzite lattice):硫化镉(CdS),硫化锌(ZnS)等
  • 氯化钠型结构:硫化铅(PdS),碲化铅(PbTe)等

晶向指数与晶面

理解概念,各种括号的样子别搞混了。

晶向指数 晶面
  • [100]:用于表示某个晶向
  • <100>:用于表示一组晶向,如<100>表示所有可能的与坐标轴平行的方向
  • (100):用于表示某个晶面
  • {100}:用于表示一组晶面

金刚石结构

每个原子周围有4个最近邻的原子,组成正四面体,任一顶角上的原子和中心原子各贡献一个价电子为两个原子共有,共有的电子在两个原子之间形成较大的电子云密度,通过它们对原子实的引力结合两个原子,此为共价键。

金刚石结构结晶学原胞 金刚石结构的面投影

闪锌矿结构

闪锌矿结构中的化学键含有混合键,这是共价键和离子键的组合。闪锌矿结构内的混合键起主要作用的是共价键,但结合性质有一定的离子性,这是因为不同族原子之间的电离能有一定差别。

常见的闪锌矿结构的晶体有砷化镓、磷化铟。

金刚石结构与闪锌矿结构相同。

但金刚石结构由同种元素构成,化学键为共价键,而闪锌矿由两类不同元素构成,主要为共价键,同时又具有离子键的混合成分。

纤锌矿结构

纤锌矿结构内也含有混合键,且其离子性结合占优

纤锌矿结构

氯化钠结构

氯化钠结构的半导体

一些习题

硅的原子面密度

计算硅(100)、(110)、(111)面每平方厘米内的原子个数,即原子面密度。

答案

对于(100)面,四个顶角各有一个占据1/4的原子(仅考虑平面),面中心还有一个原子占据1,因此为1+14×4a2=2a2\dfrac{1+\frac{1}{4}\times 4}{a^2}=\dfrac{2}{a^2}

对于(110)面,四个顶角各有一个占据1/4的原子,棱上有两个原子共占据1(两个面共用一条棱),面内还有两个原子,共占据2,因此为2+14×4+12×22a2=42a2=22a2\dfrac{2+\frac{1}{4}\times 4 + \frac{1}{2}\times 2}{\sqrt{2}a^2}=\dfrac{4}{\sqrt{2}a^2}=\dfrac{2\sqrt 2}{a^2}

对于(111)面,不妨按照等边三角形计算:三个顶角各有一个占据1/6的原子(因为等边三角形角度为60°,60/360=1/6),棱上有两个原子共占据3/2,因此为16×3+12×332a2=232a2=43a2\dfrac{\frac{1}{6}\times 3 + \frac{1}{2}\times 3}{\frac{\sqrt{3}}{2}a^2}=\dfrac{2}{\frac{\sqrt{3}}{2}a^2}=\dfrac{4}{\sqrt{3}a^2}

Silicon Crystal Lattice by lydiathelee on Sketchfab

电子状态与能带

原子的能级和晶体的能带

壳层 支壳层 电子数
s p d f
K (1) 0 2
L (2) 1 2+6=8
M (3) 2 2+6+10=18
N (4) 3 2+6+10+14=32

电子的能级是量子化的。孤立原子的能级如1s/2s/2p,是独立的。当两个原子相互靠近的时候,由于电子的壳层的交叠,电子不再局限在一个原子上,可以在原子之间转移,在整个晶体中运动。原来在某一能级上的电子就分别处在分裂的两个能级上,这时电子不再属于某一个原子,而为两个原子所共有。

原子的能级的分裂

多个原子重复此行为,就将能级分裂为能带。

能级分裂为能带,注意内层和外层的能带宽度。

能带的特点:

  • 准连续
  • 内层电子共有化运动弱,能级分裂小,能带窄
  • 外层电子共有化运动强,能级分裂大,能带宽
  • 形成允带和禁带
  • 核外价电子共有化运动成为准自由电子

以硅晶体的能带形成为例:

硅晶体的能带形成

半导体中电子的状态和能带

单电子近似认为,晶体中的某一个电子是在周期性排列且固定不动的原子核的势场,以及其他大量电子的平均势场中运动,这个势场也是周期性变化的,而且它的周期与晶格周期相同。

自由电子

微观粒子具有波粒二象性。

p=m0νE=12p2m0\begin{aligned} p&=m_0\nu \\ E&=\frac{1}{2}\frac{p^2}{m_0} \end{aligned}

使用平面波来表示自由粒子:

Φ(r,t)=Aei2π(krνt)\Phi(\vec{r},t)=Ae^{i2\pi(\vec{k}\cdot\vec{r}-\nu t)}

能量与平面波频率关系:E=νE=\hbar\nu

动量与波矢关系 p=k\vec{p}=\hbar\vec{k}

半导体中的电子状态

我们对周期性势场中的电子采用近似:

  • 绝热近似:电子的质量比原子核小的多,电子运动远快于原子核,故考虑电子运动规律时,可近似认为原子核固定不动;
  • 单电子近似:把每个电子的运动单独考虑,认为电子在原子核势场和其它所有电子的平均势场中运动。这个势场与晶格具有相同的周期,称为周期性势场。

一维晶格周期性势场示意图

布洛赫定理

晶体中电子运动的薛定谔方程为:

22m0d2ψ(x)dx2+V(x)ψ(x)=Eψ(x)-\frac{\hbar^2}{2m_0}\frac{d^2\psi(x)}{dx^2}+V(x)\psi(x)=E\psi(x)

布洛赫定理

布里渊区与能带

求解晶体中电子运动的薛定谔方程,可以得到解为:k=nπa(n=0,±1,±2)k=\dfrac{n\pi}{a}\quad (n=0,\pm1,\pm2 \cdots)

E(k)与k的关系

可知允带出现在以下布里渊区:

  • 第一布里渊区:πa<k<πa-\dfrac{\pi}{a}\lt k \lt \dfrac{\pi}{a}
  • 第二布里渊区:2πa<k<πa,πa<k<2πa-\dfrac{2\pi}{a}\lt k \lt -\dfrac{\pi}{a},\quad \dfrac{\pi}{a}\lt k \lt \dfrac{2\pi}{a}
  • 第三布里渊区:3πa<k<2πa,2πa<k<3πa-\dfrac{3\pi}{a}\lt k \lt -\dfrac{2\pi}{a},\quad \dfrac{2\pi}{a}\lt k \lt \dfrac{3\pi}{a}

禁带出现在k=nπak=\dfrac{n\pi}{a},即布里渊区边界上。

为了方便表示,使用简约布里渊区来表示,如图(c)所示。此为E(k)与k的多值函数,因此在说明其关系时,必须使用En(k)来表明是第几个能带。

E(k)-k的对应意义:

  1. 一个k值与一个能级(又称能量状态)相对应;
  2. 可以证明,每个布里渊区有N个k状态,每个能带中有N个能级;(N:晶体的固体物理学原胞数)
  3. 能级准连续。

金刚石型结构的第一布里渊区

面心立方体的第一布里渊区截角八面体,构成一个十四面体。请看VCR。

金刚石型结构的第一布里渊区

硅、锗都属于金刚石结构,其固体物理学原胞为面心立方,所以它们具有相同的倒格子和布里渊区。III-V族化合物大多属于闪锌矿结构,它们也具有上图所示的布里渊区。

导体、半导体和绝缘体的能带

满带中的电子,在电场的作用下不形成电流;被电子部分占满的能带,在电场作用下,形成电流。好比盛满水的瓶子摇不响,但是装了一半水的瓶子能摇的响啊很响啊

对于绝缘体、半导体、导体的能带:

  • 金属是半满带;
  • 半导体和绝缘体的导带,在绝对零度的时候,是空的,价带是满的;
  • 半导体和绝缘体的禁带宽度(带隙)不同。
能带示意图
  • 金属能带部分占满,导电性好;
  • 半导体能带禁带窄,电子易激发到导带,导电性介于金属与绝缘体之间;
  • 绝缘体能带禁带宽,能激发的电子少,导电性差。

本征激发

会考名词解释。

价带上的电子激发成为准自由电子,即价带电子激发成为导带电子的过程,称为本征激发。

价带电子激发成为导带电子

对于半导体而言,导带底部价带顶部的电子对其各项性能往往起决定性的作用。

  • 导带底 Ec 导带电子的最低能量
  • 价带顶 Ev 价带电子的最高能量
  • 禁带宽度 Eg=Ec-Ev

半导体中电子的运动与有效质量

能带关系与有效质量

设能带底位于k=0,则在k=0泰勒展开:

12(d2Edk2)k=0=1mnE(k)E(0)=2k22mn\begin{aligned} \frac{1}{\hbar^2}\left(\frac{d^2E}{dk^2}\right)_{k=0}=\frac{1}{m_n^*}\\ \\ E\left(k\right)-E\left(0\right)=\frac{\hbar^{2}k^{2}}{2m_{n}^{*}} \end{aligned}

称mn*能带底电子有效质量,为

同样,设能带顶位于k=0,则在k=0泰勒展开:

12(d2Edk2)k=0=1mnE(k)E(0)=2k22mn\begin{aligned} \frac{1}{\hbar^2}\left(\frac{d^2E}{dk^2}\right)_{k=0}=\frac{1}{m_n^*}\\ \\ E\left(k\right)-E\left(0\right)=\frac{\hbar^{2}k^{2}}{2m_{n}^{*}} \end{aligned}

称mn*能带顶电子有效质量,为

从上式还可以得出:

mn=2d2Edk2{m_n}^{*} = \frac{\hbar ^ 2}{\dfrac{d^2E}{dk^2}}

可以看出,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大。

内层电子的能带窄,有效质量大;外层电子的能带宽,有效质量小。因此,外层电子在外力作用下可以获得较大的加速度。

平均速度与加速度

平均速度

上面提到:E=12p2m0E=\dfrac{1}{2}\dfrac{p^2}{m_0},两边对k求导,并带入p=m0νp=m_0\nu,可得:

ν=1dEdk\nu=\frac{1}{\hbar}\frac{dE}{dk}

再带入上面得到的有效质量,可得:

ν=kmn\nu=\frac{\hbar k}{ {m_n}^*}

这就是能带极值附近电子的速度。

速度和有效质量的正负关系要注意!

加速度

dE=fds=fνdtν=1dEdk\begin{aligned} & dE=fds=f\nu dt \\ & \nu=\frac{1}{\hbar}\frac{dE}{dk} \end{aligned}

化简可得:

a=dνdt=1ddt(dEdk)=1d2Edk2dkdt=f2d2Edk2=fmna=\frac{d\nu}{dt}=\frac{1}{\hbar}\frac{d}{dt}\left(\frac{dE}{dk}\right)=\frac{1}{\hbar}\frac{d^2E}{dk^2}\frac{dk}{dt}=\frac{f}{\hbar^2}\frac{d^2E}{dk^2}=\frac{f}{ {m_n}^*}

半导体中电子所受的外力与加速度的关系和牛顿第二定律类似。

有效质量的意义

半导体中的电子在外力作用下,描述电子运动规律的方程中出现的是有效质量而非惯性质量。这是因为上面式子中的f并不是电子受力的总和。半导体中的电子即使在没有外加电场作用时,它也要受到半导体内部原子及其他电子的势场作用。

因此,电子的加速度应该是半导体内部势场和外电场作用的综合效果。

有效质量并不代表真正的质量,而是代表能带中电子受外力时外力与加速度的一个比例系数,其概括了半导体内部势场的作用!

空穴受到了更多来自半导体内部势场的影响,故体现为具有更大的有效质量。

生动形象的解释

栗子

比较简单的习题

此PPT内动量有误,应当为k\hbar k

答案
  1. 宽度就是两个在各自极值点的值相减。
  2. 求导之后带入极值点的k就行了。注意求出来的应该是正值。
  3. 同上,但是注意是负值。
  4. 带入k的差值。注意准动量p=kp=\hbar k

本征半导体的导电机构:空穴

电子可以在晶体中做共有化运动,但是,这些电子能否导电,还必须考虑电子填充能带的情况,不能只看单个电子的运动。

研究发现,如果一个能带中所有的状态都被电子占满,那么即使有外加电场,晶体中也没有电流,即满带电子不导电。只有虽包含电子但并未填满的能带才有一定的导电性,即不满的能带中的电子才可以导电

空穴实际上是一种等效方法。在热力学温度为零时,纯净半导体的价带被价电子填满,导带是空的。在一定温度下,价带顶部附近有少量电子被激发到导带底部附近,在外电场的作用下,导带中电子便参与导电。价带中空着的状态看成带正电的粒子,称空穴,带一个单位的正电荷。

空穴示意图

空穴认为带的是正电荷,自然运动方向和电场一致。从上图可以看出:价带顶的空穴向下是能量增大,而导带底的电子向上是能量增大。

  • 空穴是假想粒子,价带顶,价带空出的空状态;
  • 空穴带一个单位的正电荷q;
  • 有效质量为,大小与价带顶电子有效质量相同,位于价带顶,空穴有效质量mp*=-mn*
  • k状态的空穴速度等于该状态的电子速度。

价带中大量电子对电流的贡献可以用少量的空穴表达,方便分析问题!

价带曲线曲率越大越尖锐,空穴越轻,反之亦然。

导电机构

在半导体中存在两种载流子:电子与空穴。而在本征半导体中,电子数等于空穴数。

金属只有电子一种载流子。

回旋共振

回旋共振是一种实验,可测出载流子有效质量并据此推出半导体的能带结构。

k空间等能面

对于实际的三维晶体,kx、ky、kz为坐标构成k空间:

k=kxi+kyj+kzk\vec{k} = k_x \vec{i} + k_y \vec{j} + k_z \vec{k}

对于各向异性的晶体,沿着不同的波矢k方向的能带关系不一定相同,反映出沿着不同的k方向,电子的有效质量不一定相同。在极值附近进行泰勒展开:

(kxk0x)22mx(EEc)2+(kyk0y)22my(EEc)2+(kzk0z)22mz(EEc)2=1\dfrac{(k_x - k_{0x})^2}{\dfrac{2{m_x}^*(E - E_c)}{\hbar^2}} + \dfrac{(k_y - k_{0y})^2}{\dfrac{2{m_y}^*(E - E_c)}{\hbar^2}} + \dfrac{(k_z - k_{0z})^2}{\dfrac{2{m_z}^*(E - E_c)}{\hbar^2}} = 1

当E为某个定值时,对应不同方向上的,连接起来构成一个封闭面,此面上能量值相等。

硅、锗晶体的导带等能面为旋转椭球面

回旋共振实验

记住概念,曾经考过名词解释。

回旋共振实验是将一块半导体样品置于均匀恒定的磁场中,用电磁波通过样品,发生回旋共振吸收,测出共振吸收时电磁波的频率ω,可得到有效质量mn*

各向异性有效质量的回旋共振 计算与推导

1mn=mxα2+myβ2+mzγ2mxmymz\frac{1}{ {m_n}^*} = \sqrt{\frac{ {m_x}^*\alpha^2+ {m_y}^*\beta^2+ {m_z}^*\gamma^2}{ {m_x}^* {m_y}^* {m_z}^*}}

共振吸收峰个数和B的方向有关,可反推各个方向的有效质量!

有效质量与共振吸收时候的频率成反比,与外加磁场强度成正比!

硅和锗的能带结构

硅和锗的导带结构

叙述能带结构的几个必须点:

  1. 极值的位置;
  2. 极值点的个数;
  3. 极值点附近等能面的形状;
  4. 椭球轴的长轴方向。

n型硅的导带结构

对于n型硅,进行实验后:

  1. B沿[111]晶轴方向,观察到一个吸收峰
  2. B沿[110]晶轴方向,观察到两个吸收峰
  3. B沿[100]晶轴方向,观察到两个吸收峰
  4. B沿任意方向,观察到三个吸收峰

可以根据实验结果假设:

  1. 球形等能面,各向同性有效质量,极小值在k=0处,无论B沿任何方向,只有一个吸收峰,与实验结果不符。
  2. 设硅导带底附近等能面为沿[100]方向的旋转椭球面,椭球长轴与[100]方向重合,导带最小值在[100]方向上。

根据硅晶体的立方对称性的要求,必有同样的等能面在其它5个方向上,共有6个旋转椭球面,电子分布在这些极值附近。

化简等能面方程:选取E0为能量零点,以k0-为坐标原点,取k1k2k3为三个直角坐标轴,分别与椭球主轴重合,并使k3轴沿椭球长轴方向(即k3沿〈100〉方向),则等能面分别为绕k3轴旋转的旋转椭球面:

E(k)=22[k12+k22mt+k32ml]E(k)=\frac{\hbar^2}{2}\left[\frac{k_1^2+k_2^2}{m_t}+\frac{k_3^2}{m_l}\right]

其中,因为等能面为沿[100]方向的旋转椭球面,则沿着k1k2的有效质量相同,设其为mt

同理,有效质量也可以进行简化:

有效质量表达式简化

下面分析实验结果:

  • 磁感应强度B沿[111]方向,有一个吸收峰:

    此时,B与六个[100]方向即<100>晶向簇的夹角角度都相同(角度取为0-90之间),因此有效质量只有一个值。

  • 磁感应强度B沿[110]方向,有两个吸收峰:

    此时,B与[100]、[-1 00]、[010]、[0 -1 0]的夹角都为cos2=0.5,与[001]、[00 -1]的夹角都为cos2=0。因此,对应两种有效质量,即有两个吸收峰。

  • 磁感应强度B沿[100]方向,有两个吸收峰:

    此时,B与[100]、[-1 00]的夹角都为cos2=1,与、[010]、[0 -1 0]、[001]、[00 -1]的夹角都为cos2=0。因此,对应两种有效质量,即有两个吸收峰。

  • 磁感应强度B沿[任意]方向,有三个吸收峰:

    显然,此时B与<100>夹角可以有三种不同的cos2值,因此对应三种有效质量,即有三个吸收峰。

n型锗的导带结构

错的导带极小值位于 <111>方向 的简约布里渊区边界上,共有8个。极值附近等能面为沿<111>方向旋转的8个旋转椭球面,每个椭球面有半个在布里渊区内,因此,在简约布里渊区内共有4个椭球。

硅和错导带等能面示意图

硅和锗的价带结构

偏离的价带

第三个能带由于自旋–轨道耦合作用,能量降低,与上面两个能带分开,等能面接近球面,因此引入第三个有效质量。

此能带离开价带顶,一般只对前两个感兴趣。

硅和锗的能带结构,左边是锗,右边是硅。

硅和锗的禁带宽度是随温度变化的。随着温度升高,禁带宽度Eg按如下规律减小:

Eg(T)=Eg(0)αT2T+βE_g(T) = E_g(0) - \frac{\alpha T^2}{T + \beta}

砷化镓的能带结构

砷化镓的能带结构
  • 导带极小值位于布里渊区中心
  • 等能面为球面
  • 在[111] 和[100]方向布里渊边界各有一个极小值

直接带隙和间接带隙

直接带隙半导体的导带和价带极值点位于k空间同一点,但k不一定为0。从上面的能带图可知:砷化镓是直接带隙半导体。

常见的直接带隙半导体有:砷化镓、氮化镓、硫化锌等。

间接带隙半导体的导带和价带极值点位于k空间的不同一点。从上面的能带图可知:硅和锗都是间接带隙半导体。

常见的间接带隙半导体有:硅、锗、碳化硅等;

要会分辨下面三种能带图对应的半导体!

我 是 誰 ?
答案

左边是锗,中间是硅,右边是砷化镓。

锗的汉字里有两撇往左下,因此能带图左下低。硅和锗都是间接带隙,因此极值点不在一起,另外一个自然就是硅。

主要半导体禁带宽度与温度的关系

温度升高,禁带宽度减小

由公式可知:温度越高,禁带宽度越窄。

常用的半导体禁带宽度测量方法主要有霍尔效应光电导