怎么能有不分hh\hbar的老师,真的要被气晕了

状态密度

在半导体的导带和价带中,有很多能级存在,但相邻能级间隔很小,可以近似认为能级是连续的,因而可将能带分为一个一个能量很小的间隔来处理。

假定在能带中能量E~(E+dE)之间无限小的能量间隔内有dZ个量子态,则状态密度g(E)为g(E)=dZdEg(E) = \dfrac{dZ}{dE}。也就是说,状态密度就是在能带中能量E附近每单位能量间隔内的量子态数

k空间量子态分布与能量状态密度

k空间量子态分布

所以k空间中量子态密度(单位体积)为V=L3。考虑电子自旋,则量子态密度为2V (单位体积)。k空间量子态是均匀分布的。

k空间等能面及解决问题思路

g(E)=dZdE=2VdΩdEg(E) = \dfrac{dZ}{dE}=\dfrac{2Vd\Omega}{dE},其中dΩd\Omega是对应的体积微元。

球形等能面

若能带极值在k=0且等能面为球形,则微元dΩ=4πk2dkd\Omega=4\pi k^2 dk。k空间中,电子的允许量子态密度为2V/8π32V/8\pi^3

又有:E(k)=E(0)+2k22mnE\left(k\right)=E\left(0\right)+\dfrac{\hbar^{2}k^{2}}{2m_{n}^{*}},对k求导并带入,可得:

dZ=4πV(2mn)3/2h3(EEc)1/2dEdZ=4\pi V\frac{(2m_n^*)^{3/2}}{h^3}(E-E_c)^{1/2}dE

因此,导带底附近的状态密度为:

gc(E)=4πV(2mn)3/2h3(EEc)1/2g_c(E) = 4\pi V\frac{(2m_n^*)^{3/2}}{h^3}(E-E_c)^{1/2}

同理,对于若能带极值在k=0且等能面为球形的价带顶附近状态密度为:

gv(E)=4πV(2mp)3/2h3(EvE)1/2g_v(E) = 4\pi V\frac{(2m_p^*)^{3/2}}{h^3}(E_v-E)^{1/2}

旋转椭球型等能面

若能带极值不在k=0且等能面为旋转椭球形,则:E(k)=E(0)+22[k12+k22mt+k32ml]E(k)=E(0)+\dfrac{\hbar^2}{2}\left[\dfrac{k_1^2+k_2^2}{m_t}+\dfrac{k_3^2}{m_l}\right],其体积微元为:

Ω=43πabc=43π23/2mt(ml)1/2(EEc)3/23\Omega = \dfrac{4}{3}\pi abc =\dfrac{4}{3}\pi\dfrac{2^{3/2}m_{t}^{*}(m_{l}^*)^{1/2}(E-E_{c})^{3/2}}{\hbar^{3}}

对于s个椭球,包含的总量子态数为:

Ztotal=s2VdΩ=sV83π[2((mt)2ml)1/3(EEc)]3/23Z_{total} = \textcolor{red}{s} \sdot 2V \sdot d\Omega = \textcolor{red}{s} \sdot V \sdot \dfrac{8}{3}\pi\dfrac{\left[2 \big((m_t^*)^2 m_{l}^*\big)^{1/3} (E-E_{c})\right]^{3/2}}{\hbar^{3}}

则状态密度为:

gc(E)=4πV(2mn)3/2h3[EEc]1/2mn=s2/3(mlmt2)1/3\begin{aligned} g_c(E) &= 4 \pi V \dfrac{(2m_n^*)^{3/2}}{h^3} [E-E_c]^{1/2} \\ m_n^* &= s^{2/3} (m_l m_t^2)^{1/3} \end{aligned}

考虑轻重空穴价带

gv(E)=4πV(2mp)3/2h3(EvE)1/2mp=[(mp)l3/2+(mp)h3/2]2/3\begin{aligned} g_v(E) &= 4\pi V\frac{(2m_p^*)^{3/2}}{h^3}(E_v-E)^{1/2}\\ m_p^* &= \left[ (m_p)_l^{3/2} + (m_p)_h^{3/2} \right]^{2/3} \end{aligned}

状态密度与能量关系

费米能级与载流子的统计分布

费米分布函数和费米能级

电子按能量的大小有一定的统计分布规律:

f(E)=11+exp(EEFk0T)f(E)=\frac{1}{1+\exp(\dfrac{E-E_F}{k_0T})}

其中EF是费米能级,费米能级是系统的化学势。

费米分布函数的性质

从图像可以看出:温度越高,曲线越平缓。当处于绝对零度时,曲线完全为阶跃。

高于费米能级的量子态几乎是空的,低于则几乎是满的。

费米能级与温度、半导体材料的导电类型杂质含量能量零点选取有关。

玻耳兹曼分布函数

对于电子,在上式中,若EEFk0TE-E_F \gg k_0T,此时exp(EEFk0T)1\exp(\dfrac{E-E_F}{k_0T}) \gg 1,前面相加的1可以忽略不计。化简可得:

fB(E)=exp(EFk0T)exp(Ek0T)=Aexp(Ek0T)f_B(E) = \exp(\dfrac{E_F}{k_0T}) \cdot \exp(-\dfrac{E}{k_0T}) = A\exp(-\dfrac{E}{k_0T})

此为玻耳兹曼统计分布函数。可以看出,费米分布会在指数项较大的时候向着玻尔兹曼分布过渡。

我们用1减去上面求得的被电子占据几率,就是不被电子占据,即被空穴占据的几率:

1f(E)=exp(EEFk0T)1+exp(EEFk0T)=1exp(EFEk0T)+1\begin{aligned} 1-f(E)&= \frac{\exp(\dfrac{E-E_F}{k_0T})}{1+\exp(\dfrac{E-E_F}{k_0T})}\\ \\ &=\frac{1}{\exp(\dfrac{\textcolor{red}{E_F-E}}{k_0T})+1} \end{aligned}

同理,EFEk0TE_F-E \gg k_0T时,上式可化简为:

1f(E)exp(EFk0T)exp(Ek0T)=Bexp(Ek0T)1-f(E) \simeq \exp(-\dfrac{E_F}{k_0T}) \cdot \exp(\dfrac{E}{k_0T}) = B\exp(\dfrac{E}{k_0T})

综合上面的两个式子,不难发现:

导带中,绝大多数电子分布在导带底附近;价带中,绝大多数空穴分布在价带顶附近。

载流子浓度分布示意图

上图右边的小鼓包函数就是g(E)f(E)g(E)f(E)

非简并半导体与简并半导体

通常把服从玻耳兹曼统计律的电子系统称为非简并性系统,而服从费米统计律的电子系统称为简并性系统

非简并性系统 简并性系统
掺杂浓度低 掺杂浓度高
玻尔兹曼分布 费米分布
不考虑泡利不相容原理 考虑泡利不相容原理

载流子浓度乘积

公式太多了记不下来的。记好主要变量的变化趋势就行。比如NcT3/2N_c \propto T^{3/2}n0T3/4exp(ΔED2k0T)n_0 \propto T^{3/4}\exp(\dfrac{-\Delta E_D}{2k_0T})

n0=2(2πmnk0T3)3/2exp(EcEFk0T)n_0 = 2 \left( \frac{2 \pi m_n^* k_0 T}{\hbar ^3} \right)^{3/2} \cdot \exp \left( -\frac{E_c - E_F}{k_0 T} \right)

不妨令导带的有效状态密度Nc=2(2πmnk0T3)3/2N_c = 2 \left( \dfrac{2 \pi m_n^* k_0 T}{\hbar^3} \right)^{3/2},对于空穴亦然:

n0=Ncexp(EcEFk0T)p0=Nvexp(EFEvk0T)\begin{aligned} n_0 = N_c \cdot \exp \left( -\frac{E_c - E_F}{k_0 T} \right)\\ p_0 = N_v \cdot \exp \left( -\frac{E_F - E_v}{k_0 T} \right)\\ \end{aligned}

将两式相乘可得:

n0p0=NcNvexp(EcEvk0T)=NcNvexp(Egk0T)n_0 p_0 = N_c N_v \exp (-\dfrac{E_c-E_v}{k_0T}) = N_c N_v \exp (-\dfrac{\textcolor{red}{E_g}}{k_0T})

载流子浓度乘积的特性:

  • 一定的半导体,如果温度一定,则载流子乘积一定,与费米能级无关,与杂质浓度无关
  • 适用于热平衡状态下的非简并半导体,包括本征半导体杂质半导体(杂质浓度不高)

本征半导体的载流子浓度

求本征半导体的费米能级的公式必考。

本征半导体中电子与空穴成对产生,因此可求解费米能级:

Ei=EF=Ec+Ev2+k0T2lnNvNc=Ec+Ev2+3k0T4lnmpmn\begin{aligned} E_i = E_F &= \frac{E_c + E_v}{2} + \textcolor{red}{\frac{k_0 T}{2}} \ln \frac{N_v}{N_c} \\ & = \frac{E_c + E_v}{2} + \textcolor{red}{\frac{3 k_0 T}{4}} \ln \frac{m_p^*}{m_n^*} \end{aligned}

又因为:n0p0=ni2n_0p_0=n_i^2,带入相关数值计算可得:

ni=[2(2πk0T)3/2(mpmn)3/43]exp(Eg2k0T)=4.82×1015(mpmnm02)3/4T3/2exp(Eg2k0T)=(NCNV)1/2exp(Eg2k0T)\begin{aligned} n_i &= \left[ \frac{2 (2 \pi k_0 T)^{3/2} \left( m_p^* m_n^* \right)^{3/4}}{\hbar ^3} \right] \exp \left( -\frac{E_g}{2 k_0 T} \right) \\ &= 4.82\times10^{15} \left(\dfrac{m_p^* m_n^*}{m_0^2}\right)^{3/4} T^{3/2} \exp \left( -\frac{E_g}{2 k_0 T} \right)\\ &= \big( N_CN_V \big)^{1/2} \exp \left( -\frac{E_g}{2 k_0 T} \right) \end{aligned}

由公式可知:温度升高,本征载流子浓度升高。若升高到大于掺杂浓度时,本征激发占主要,器件不能稳定工作。

同理,温度不变时,禁带宽度增加,本征载流子浓度减小。对于不同半导体,禁带宽度大的对应的工作温度更高;同种半导体,掺杂大对应的本征载流子浓度大,极限温度高,所以高掺杂有利于器件高温工作

本征载流子浓度小于掺杂浓度的十分之一时,可以认为以杂质电离为主!

杂质半导体的载流子浓度

杂质能级上的电子和空穴

杂质能级:等高、分立、短线

杂质能级与能带中能级的区别:

  • 能带中能级可以容纳两个自旋相反的电子
  • 杂质能级只能容纳一个任意自旋的电子或不被电子占据
  • 杂质能级被占据的几率不能用标准的费米分布函数

电子占据施主能级的概率为:

fD(E)=11+1gDexp(EDEFk0T)f_D(E) = \frac{1}{1 + \dfrac{1}{g_D} \exp\left(\dfrac{E_D - E_F}{k_0 T}\right)}

同理,对于空穴,占据受主能级的概率为:

fA(E)=11+1gAexp(EFEAk0T)f_A(E) = \frac{1}{1 + \dfrac{1}{g_A} \exp\left(\dfrac{E_F - E_A}{k_0 T}\right)}

其中gD是施主能级的基态简并度,通常称为简并因子。对于锗、硅、砷化镓等材料,gD=2,gA=4。对于近似计算,可以认为简并因子都为2。

施主能级

施主能级上的电子浓度为:

nD=NDfD(E)=ND1+12exp(EDEFk0T)n_D = N_Df_D(E) = \frac{N_D}{1 + \dfrac{1}{2} \exp\left(\dfrac{E_D - E_F}{k_0 T}\right)}

电离施主浓度为:

nD+=ND[1fD(E)]=ND1+2exp(EDEFk0T)n_D^+ = N_D\big[1 - f_D(E)\big] = \frac{N_D}{1 +\textcolor{red}{2} \exp\left(\textcolor{red}{-}\dfrac{E_D - E_F}{k_0 T}\right)}

受主能级

受主能级上的空穴浓度为:

pA=NAfA(E)=NA1+12exp(EFEAk0T)p_A = N_Af_A(E) = \frac{N_A}{1 + \dfrac{1}{2} \exp\left(\dfrac{E_F - E_A}{k_0 T}\right)}

电离受主浓度为:

pA=NA[1fA(E)]=NA1+2exp(EFEAk0T)p_A^- = N_A\big[1 - f_A(E)\big] = \frac{N_A}{1 + \textcolor{red}{2} \exp\left(\textcolor{red}{-}\dfrac{E_F - E_A}{k_0 T}\right)}

由上面的式子可知:当费米能级远在施主能级之下时,可以认为施主杂质几乎全部电离,反之则认为施主杂质基本上没有电离。对受主能级亦然。

n型半导体的载流子浓度

对于杂质半导体,考虑电中性条件:n0=p0+nD+n_0=p_0+n_D^+。因为是n型半导体,空穴数量可以忽略不计,因此:n0=nD+n_0=n_D^+。带入上面公式:

exp(EcEFk0T)(1+2exp(EDEFk0T))NDNC=0exp(EcEDk0T)exp(EDEFk0T)+2exp(EcEDk0T)exp(2ED2EFk0T)NDNC=0\begin{aligned} \exp \left( -\frac{E_c - E_F}{k_0 T} \right) \left( 1 + 2 \exp \left( -\frac{E_D - E_F}{k_0 T} \right) \right) - \frac{N_D}{N_C} = 0 \\ \exp \left( -\frac{E_c - E_D}{k_0 T} \right) \textcolor{blue}{\exp \left( -\frac{E_D - E_F}{k_0 T} \right)} + 2 \exp \left( -\frac{E_c - E_D}{k_0 T} \right) \textcolor{blue}{\exp \left( -\frac{2E_D - 2E_F}{k_0 T} \right)} - \frac{N_D}{N_C} = 0 \end{aligned}

可以使用换元法:

x=exp(EDEFk0T)2x2+xNDNcexp(ΔEDk0T)=0x=1+8NDNcexp(ΔEDk0T)14\begin{aligned} x = \exp \left( -\frac{E_D - E_F}{k_0 T} \right) &\Rightarrow \\ 2x^2 + x - \dfrac{N_D}{N_c} \exp\left(\dfrac{\Delta E_D}{k_0T}\right) &= 0 \\ x = \frac{\sqrt{1 + \dfrac{8 N_D}{N_c} \exp \left( \dfrac{\Delta E_D}{k_0 T} \right)}-1}{4} \end{aligned}

带回费米能级表达式:

EF=ED+k0Tln[1+8NDNcexp(ΔEDk0T)14]E_F = E_D+k_0T\ln\Bigg[\dfrac{\sqrt{1 + \dfrac{8 N_D}{N_c} \exp \left( \dfrac{\Delta E_D}{k_0 T} \right)}-1}{4} \Bigg]

低温弱电离区

低温弱电离时,大部分施主能级依然被电子占据,只有少部分施主杂质发生电离,使少量的电子进入导带,这种情况被称为弱电离。

温度T很低,使得ΔED>>k0T{\Delta E_D} >> {k_0 T},则费米能级表达式可化简为:

EF=Ec+ED2+k0T2ln[ND2Nc]E_F =\dfrac{E_c+E_D}{2}+\dfrac{k_0T}{2}\ln\Big[ \dfrac{N_D}{2N_c} \Big]

低温弱电离区费米能级与温度关系

求导可知:ln[ND2Nc]=32\ln\Big[ \dfrac{N_D}{2N_c} \Big] = \dfrac{3}{2}时有极大值,为Ec+ED2+3k0T4\dfrac{E_c+E_D}{2}+\dfrac{3k_0T}{4}

强电离区(饱和电离区)

此区域下8NDNCexp(ΔEDk0T)1\dfrac{8 N_D}{N_C} \exp \left( \dfrac{\Delta E_D}{k_0 T} \right) \ll 1,因此使用常见的小量近似代换:

1+8NDNcexp(ΔEDk0T)14NDNcexp(ΔEDk0T)\sqrt{1 + \dfrac{8 N_D}{N_c} \exp \left( \dfrac{\Delta E_D}{k_0 T} \right)}-1 \approx \dfrac{4 N_D}{N_c} \exp \left( \dfrac{\Delta E_D}{k_0 T} \right)

EF=Ec+k0Tln[NDNc](ln[NDNc]<0)=Ei+k0Tln[NDni](ln[NDNi]>0)\begin{aligned} E_F &= E_c + k_0T\ln\Big[ \dfrac{N_D}{N_c} \Big] &\textcolor{red}{(\ln\Big[ \dfrac{N_D}{N_c} \Big] \lt 0)} \\ &= E_i + k_0T\ln\Big[ \dfrac{N_D}{n_i} \Big] &\textcolor{red}{(\ln\Big[ \dfrac{N_D}{N_i} \Big] \gt 0)} \end{aligned}

因此:

  1. 温度升高会导致费米能级靠近本征费米能级,且掺杂浓度越高,费米能级靠近本征费米能级能级的所需温度就越高。
  2. 温度一定,施主掺杂浓度越大,费米能级越靠近导带底 。

在此区域,载流子浓度与温度无关,保持一个定值。绝大多数半导体器件都工作在此温度区间。

求解饱和电离区的范围,常见的问题有两种:

  1. 温度一定,求杂质浓度的范围:

    我们规定D+=nD+NDD_+=\dfrac{n_D^+}{N_D},为已电离占总杂质的比例,并规定D+大于90%时认为杂质全部电离。省略D+的二次方项,可求出杂质浓度上限:

    ND,max=0.12×0.92NCexp(ΔEDk0T)=0.062NCexp(ΔEDk0T)N_{D,max} = \frac{0.1}{2 \times 0.9^2} N_C \exp \left( -\frac{\Delta E_D}{k_0 T} \right) = 0.062 N_C \exp \left( -\frac{\Delta E_D}{k_0 T} \right)

    再规定:若掺杂浓度为ni的10倍,可认为是杂质电离起作用,可以求出杂质浓度下限:

    ND,min=10niN_{D,min} = 10n_i

  2. 杂质浓度一定,求温度范围:B1T=A+32lnTB\dfrac{1}{T} = A+\dfrac{3}{2}\ln T

中间电离区

介于上面两个区域之间的是中间电离区。比如77k,处在中间电离区。

过渡区

当半导体处于饱和区和完全本征激发之间时称为过渡区,此时本征激发相对杂质电离所提供的载流子不能再忽略

根据电中性条件n0=ND+p0n_0 = N_D +p_0

方法一 方法二

强本征激发区

EF=Ei=Ec+Ev2+k0T2ln[NvNc]E_F = E_i = \dfrac{E_c+E_v}{2}+ \dfrac{k_0T}{2}\ln\Big[ \textcolor{red}{\dfrac{N_v}{N_c}} \Big]

图表

n型半导体的各类图表 费米能级随温度和杂质浓度的变化

只含一种受主杂质的p型半导体的载流子浓度

低温弱电离与中间电离区 饱和电离区 过渡与强本征激发区

一般情况下的载流子统计分布

平衡少数载流子与掺杂浓度及温度的关系

由图可知:温度越高,平衡少子浓度越高,因本征载流子浓度升高。

载流子浓度与杂质浓度关系

简并半导体载流子浓度

当半导体的掺杂浓度很高(大于1019/cm3)时,费米能级可以进入导带或价带,导带中电子浓度和价带中空穴浓度很高,必须考虑泡利不相容原理。

费米分布不能简化为玻尔兹曼分布,计算平衡态载流子浓度时,必须使用费米分布函数。

为简化计算,引进费米积分:

0x1/21+exp(xξ)dx=F1/2(ξ)=F1/2(EFEck0T)\int_0^{\infty} \frac{x^{1/2}}{1 + \exp(x - \xi)} \, dx = F_{1/2}(\xi) = F_{1/2} \left( \frac{\textcolor{red}{E_F - E_c}}{k_0 T} \right)

查表可以得出费米积分的值:

费米积分函数图像

对于载流子浓度,当费米能级与导带底重合:

n0=Nc2πF12(0)n_0= N_c\frac{2}{\sqrt{\pi}} F_{\frac{1}{2}}(0)

对于载流子浓度乘积:

n0p0=NcNv4πF12(ξ)F12(ξ)ni2n_0 p_0 = N_c N_v \frac{4}{\pi} F_{\frac{1}{2}}(\xi) F_{\frac{1}{2}}(\xi') \textcolor{red}{\neq n_i^2}

简并化条件

要记住。不过很好理解:费米能级跑到导带价带里了肯定就是简并状态了,非常接近的时候就是弱简并。

{EcEF>2k0T(非简并)ξ<20<EcEF2k0T(弱简并)0>ξ2EcEF0(简并)ξ0\begin{cases} E_c-E_F>2k_0T&(\text{非简并}) & \xi<-2 \\ 0<E_c-E_F\leq2k_0T&(\text{弱简并}) & 0>\xi\geq-2 \\ E_c-E_F\leq0&(\text{简并}) & \xi\geq0 & \end{cases}

状态密度与能量的关系

简并化的影响:

  1. 载流子浓度乘积不等于本征载流子浓度的平方
  2. 简并时杂质没有充分电离
  3. 杂质能级形成杂质能带
  4. 杂质电离能减小
  5. 禁带宽度减小

对于简并半导体,相对于非简并半导体,其禁带宽度会变窄。以简并的n型硅举例,这是因为简并半导体的杂质能级形成杂质能带,杂质能带与导带底重叠,使得电子可以到达低于导带底的杂质能带底,杂质能带底形成新的导带底。因此,原有的杂质能级到新的导带底的距离变小。

对于重掺杂的半导体,杂质能级也会扩展成为杂质能带!