怎么能有不分h和ℏ的老师,真的要被气晕了
状态密度
在半导体的导带和价带中,有很多能级存在,但相邻能级间隔很小,可以近似认为能级是连续的,因而可将能带分为一个一个能量很小的间隔来处理。
假定在能带中能量E~(E+dE)之间无限小的能量间隔内有dZ个量子态,则状态密度g(E)为g(E)=dEdZ。也就是说,状态密度就是在能带中能量E附近每单位能量间隔内的量子态数。
k空间量子态分布与能量状态密度
所以k空间中量子态密度(单位体积)为V=L3。考虑电子自旋,则量子态密度为2V (单位体积)。k空间量子态是均匀分布的。
k空间等能面及解决问题思路
g(E)=dEdZ=dE2VdΩ,其中dΩ是对应的体积微元。
球形等能面
若能带极值在k=0且等能面为球形,则微元dΩ=4πk2dk。k空间中,电子的允许量子态密度为2V/8π3
又有:E(k)=E(0)+2mn∗ℏ2k2,对k求导并带入,可得:
dZ=4πVh3(2mn∗)3/2(E−Ec)1/2dE
因此,导带底附近的状态密度为:
gc(E)=4πVh3(2mn∗)3/2(E−Ec)1/2
同理,对于若能带极值在k=0且等能面为球形的价带顶附近状态密度为:
gv(E)=4πVh3(2mp∗)3/2(Ev−E)1/2
旋转椭球型等能面
若能带极值不在k=0且等能面为旋转椭球形,则:E(k)=E(0)+2ℏ2[mtk12+k22+mlk32],其体积微元为:
Ω=34πabc=34πℏ323/2mt∗(ml∗)1/2(E−Ec)3/2
对于s个椭球,包含的总量子态数为:
Ztotal=s⋅2V⋅dΩ=s⋅V⋅38πℏ3[2((mt∗)2ml∗)1/3(E−Ec)]3/2
则状态密度为:
gc(E)mn∗=4πVh3(2mn∗)3/2[E−Ec]1/2=s2/3(mlmt2)1/3
考虑轻重空穴价带
gv(E)mp∗=4πVh3(2mp∗)3/2(Ev−E)1/2=[(mp)l3/2+(mp)h3/2]2/3
费米能级与载流子的统计分布
费米分布函数和费米能级
电子按能量的大小有一定的统计分布规律:
f(E)=1+exp(k0TE−EF)1
其中EF是费米能级,费米能级是系统的化学势。
从图像可以看出:温度越高,曲线越平缓。当处于绝对零度时,曲线完全为阶跃。
高于费米能级的量子态几乎是空的,低于则几乎是满的。
费米能级与温度、半导体材料的导电类型、杂质含量及能量零点选取有关。
玻耳兹曼分布函数
对于电子,在上式中,若E−EF≫k0T,此时exp(k0TE−EF)≫1,前面相加的1可以忽略不计。化简可得:
fB(E)=exp(k0TEF)⋅exp(−k0TE)=Aexp(−k0TE)
此为玻耳兹曼统计分布函数。可以看出,费米分布会在指数项较大的时候向着玻尔兹曼分布过渡。
我们用1减去上面求得的被电子占据几率,就是不被电子占据,即被空穴占据的几率:
1−f(E)=1+exp(k0TE−EF)exp(k0TE−EF)=exp(k0TEF−E)+11
同理,EF−E≫k0T时,上式可化简为:
1−f(E)≃exp(−k0TEF)⋅exp(k0TE)=Bexp(k0TE)
综合上面的两个式子,不难发现:
导带中,绝大多数电子分布在导带底附近;价带中,绝大多数空穴分布在价带顶附近。
上图右边的小鼓包函数就是g(E)f(E)。
非简并半导体与简并半导体
通常把服从玻耳兹曼统计律的电子系统称为非简并性系统,而服从费米统计律的电子系统称为简并性系统。
非简并性系统 |
简并性系统 |
掺杂浓度低 |
掺杂浓度高 |
玻尔兹曼分布 |
费米分布 |
不考虑泡利不相容原理 |
考虑泡利不相容原理 |
载流子浓度乘积
公式太多了记不下来的。记好主要变量的变化趋势就行。比如Nc∝T3/2、n0∝T3/4exp(2k0T−ΔED)。
n0=2(ℏ32πmn∗k0T)3/2⋅exp(−k0TEc−EF)
不妨令导带的有效状态密度Nc=2(ℏ32πmn∗k0T)3/2,对于空穴亦然:
n0=Nc⋅exp(−k0TEc−EF)p0=Nv⋅exp(−k0TEF−Ev)
将两式相乘可得:
n0p0=NcNvexp(−k0TEc−Ev)=NcNvexp(−k0TEg)
载流子浓度乘积的特性:
- 一定的半导体,如果温度一定,则载流子乘积一定,与费米能级无关,与杂质浓度无关。
- 适用于热平衡状态下的非简并半导体,包括本征半导体和杂质半导体(杂质浓度不高)。
本征半导体的载流子浓度
本征半导体中电子与空穴成对产生,因此可求解费米能级:
Ei=EF=2Ec+Ev+2k0TlnNcNv=2Ec+Ev+43k0Tlnmn∗mp∗
又因为:n0p0=ni2,带入相关数值计算可得:
ni=[ℏ32(2πk0T)3/2(mp∗mn∗)3/4]exp(−2k0TEg)=4.82×1015(m02mp∗mn∗)3/4T3/2exp(−2k0TEg)=(NCNV)1/2exp(−2k0TEg)
由公式可知:温度升高,本征载流子浓度升高。若升高到大于掺杂浓度时,本征激发占主要,器件不能稳定工作。
同理,温度不变时,禁带宽度增加,本征载流子浓度减小。对于不同半导体,禁带宽度大的对应的工作温度更高;同种半导体,掺杂大对应的本征载流子浓度大,极限温度高,所以高掺杂有利于器件高温工作。
本征载流子浓度小于掺杂浓度的十分之一时,可以认为以杂质电离为主!
杂质半导体的载流子浓度
杂质能级上的电子和空穴
杂质能级:等高、分立、短线
杂质能级与能带中能级的区别:
- 能带中能级可以容纳两个自旋相反的电子
- 杂质能级只能容纳一个任意自旋的电子或不被电子占据
- 杂质能级被占据的几率不能用标准的费米分布函数
电子占据施主能级的概率为:
fD(E)=1+gD1exp(k0TED−EF)1
同理,对于空穴,占据受主能级的概率为:
fA(E)=1+gA1exp(k0TEF−EA)1
其中gD是施主能级的基态简并度,通常称为简并因子。对于锗、硅、砷化镓等材料,gD=2,gA=4。对于近似计算,可以认为简并因子都为2。
施主能级
施主能级上的电子浓度为:
nD=NDfD(E)=1+21exp(k0TED−EF)ND
电离施主浓度为:
nD+=ND[1−fD(E)]=1+2exp(−k0TED−EF)ND
受主能级
受主能级上的空穴浓度为:
pA=NAfA(E)=1+21exp(k0TEF−EA)NA
电离受主浓度为:
pA−=NA[1−fA(E)]=1+2exp(−k0TEF−EA)NA
由上面的式子可知:当费米能级远在施主能级之下时,可以认为施主杂质几乎全部电离,反之则认为施主杂质基本上没有电离。对受主能级亦然。
n型半导体的载流子浓度
对于杂质半导体,考虑电中性条件:n0=p0+nD+。因为是n型半导体,空穴数量可以忽略不计,因此:n0=nD+。带入上面公式:
exp(−k0TEc−EF)(1+2exp(−k0TED−EF))−NCND=0exp(−k0TEc−ED)exp(−k0TED−EF)+2exp(−k0TEc−ED)exp(−k0T2ED−2EF)−NCND=0
可以使用换元法:
x=exp(−k0TED−EF)2x2+x−NcNDexp(k0TΔED)x=41+Nc8NDexp(k0TΔED)−1⇒=0
带回费米能级表达式:
EF=ED+k0Tln[41+Nc8NDexp(k0TΔED)−1]
低温弱电离区
低温弱电离时,大部分施主能级依然被电子占据,只有少部分施主杂质发生电离,使少量的电子进入导带,这种情况被称为弱电离。
温度T很低,使得ΔED>>k0T,则费米能级表达式可化简为:
EF=2Ec+ED+2k0Tln[2NcND]
求导可知:ln[2NcND]=23时有极大值,为2Ec+ED+43k0T。
强电离区(饱和电离区)
此区域下NC8NDexp(k0TΔED)≪1,因此使用常见的小量近似代换:
1+Nc8NDexp(k0TΔED)−1≈Nc4NDexp(k0TΔED)
EF=Ec+k0Tln[NcND]=Ei+k0Tln[niND](ln[NcND]<0)(ln[NiND]>0)
因此:
- 温度升高会导致费米能级靠近本征费米能级,且掺杂浓度越高,费米能级靠近本征费米能级能级的所需温度就越高。
- 温度一定,施主掺杂浓度越大,费米能级越靠近导带底 。
在此区域,载流子浓度与温度无关,保持一个定值。绝大多数半导体器件都工作在此温度区间。
求解饱和电离区的范围,常见的问题有两种:
-
温度一定,求杂质浓度的范围:
我们规定D+=NDnD+,为已电离占总杂质的比例,并规定D+大于90%时认为杂质全部电离。省略D+的二次方项,可求出杂质浓度上限:
ND,max=2×0.920.1NCexp(−k0TΔED)=0.062NCexp(−k0TΔED)
再规定:若掺杂浓度为ni的10倍,可认为是杂质电离起作用,可以求出杂质浓度下限:
ND,min=10ni
-
杂质浓度一定,求温度范围:BT1=A+23lnT
中间电离区
介于上面两个区域之间的是中间电离区。比如77k,处在中间电离区。
过渡区
当半导体处于饱和区和完全本征激发之间时称为过渡区,此时本征激发相对杂质电离所提供的载流子不能再忽略!
根据电中性条件n0=ND+p0:
强本征激发区
EF=Ei=2Ec+Ev+2k0Tln[NcNv]
图表
只含一种受主杂质的p型半导体的载流子浓度
一般情况下的载流子统计分布
由图可知:温度越高,平衡少子浓度越高,因本征载流子浓度升高。
简并半导体载流子浓度
当半导体的掺杂浓度很高(大于1019/cm3)时,费米能级可以进入导带或价带,导带中电子浓度和价带中空穴浓度很高,必须考虑泡利不相容原理。
费米分布不能简化为玻尔兹曼分布,计算平衡态载流子浓度时,必须使用费米分布函数。
为简化计算,引进费米积分:
∫0∞1+exp(x−ξ)x1/2dx=F1/2(ξ)=F1/2(k0TEF−Ec)
查表可以得出费米积分的值:
对于载流子浓度,当费米能级与导带底重合:
n0=Ncπ2F21(0)
对于载流子浓度乘积:
n0p0=NcNvπ4F21(ξ)F21(ξ′)=ni2
简并化条件
要记住。不过很好理解:费米能级跑到导带价带里了肯定就是简并状态了,非常接近的时候就是弱简并。
⎩⎨⎧Ec−EF>2k0T0<Ec−EF≤2k0TEc−EF≤0(非简并)(弱简并)(简并)ξ<−20>ξ≥−2ξ≥0
简并化的影响:
- 载流子浓度乘积不等于本征载流子浓度的平方
- 简并时杂质没有充分电离
- 杂质能级形成杂质能带
- 杂质电离能减小
- 禁带宽度减小
对于简并半导体,相对于非简并半导体,其禁带宽度会变窄。以简并的n型硅举例,这是因为简并半导体的杂质能级形成杂质能带,杂质能带与导带底重叠,使得电子可以到达低于导带底的杂质能带底,杂质能带底形成新的导带底。因此,原有的杂质能级到新的导带底的距离变小。
对于重掺杂的半导体,杂质能级也会扩展成为杂质能带!